平板拋光機(jī)把拋光分為兩個階段。粗磨的目的是去除磨損損傷層,使其達(dá)到最大拋光速度。由粗拋引起的表面損傷是次要考慮因素,但應(yīng)盡量小。第二個是完成(或最后拋),目的是消除表面粗糙造成的損害,并盡量減少拋光損傷。
拋光機(jī)拋光時(shí),試樣研磨面和拋光盤應(yīng)完全平行并均勻地壓在閥瓣上,防止樣品因壓力過大而飛出并產(chǎn)生新的磨損痕跡。同時(shí)還應(yīng)使樣品旋轉(zhuǎn),并沿車輪半徑方向來回移動,以避免在打磨拋光布過程中局部磨損過快,保持粉漿的加入,使拋光布保持一定的濕度。
濕度過大,降低了拋光的磨損效果,使試樣中的硬相呈現(xiàn)鋼中的浮凸和非金屬夾雜物以及鑄鐵中的石墨的"拖尾"現(xiàn)象。濕度太小,因?yàn)槟Σ翢釙箻悠飞郎兀瑵櫥Ч麜档?,磨削表面會失去光澤,甚至?xí)霈F(xiàn)黑斑,而輕合金會拋出表面。
為了實(shí)現(xiàn)粗加工的目的,平板拋光機(jī)需要的轉(zhuǎn)速較低,最好不超過600r/min;拋光時(shí)間應(yīng)當(dāng)比去掉劃痕不再因?yàn)樽冃螌討?yīng)去除。粗拋光后,磨削表面光滑,但表面粗糙。在顯微鏡下,有一個均勻的細(xì)磨痕,有待消除。